高纯氧气主要用于标准气配制，合肥氧气，集成电路和半导体器件生产，气体火焰加工。
对于MOS场效应器件，氧化层必须相当致密。与四氟化碳混合，工业氧气，用于等离子刻蚀。高纯氧用于二氧化硅的化学气相淀积；作为氧化源和产生高纯水的反应剂；采用高纯氧气进行干法氧化，其氧化层结构致密，正电荷少，工业氧气价格，耐压高。还用于金属的切割和焊接、炼钢、国防、电子、化工、冶金等部门。
工业氧气
纯度(V/V)：99.2%
执行标准：国标
产品介绍
不燃，无色无味无臭的气体，液化后成蓝色。
化工和治金中的强氧化剂、制造水煤气和天然气、低温氧化石油i气、焊接及切割金属、火箭发动机、输氧呼吸装置、空气净化、液态氧炸i药、制造用等离子蚀刻、氧化、扩散、化学气相淀积、标准气、校正气、零点气、在线仪表标准气、医i疗气、光导纤维的制备。
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